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熱門(mén)關(guān)鍵詞：a-氧化鋁拋光 金相氧化鋁拋光粉 煅燒a氧化鋁 懸浮劑 平板狀氧化鋁微粉

  • A 這兩個(gè)概念主要出現(xiàn)在半導(dǎo)體加工過(guò)程中，*初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是及其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，**性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深?；瘜W(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為**的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的**有效方法。制作步驟依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。

  • A 品名：r氧化鋁拋光粉, Alumina polishing powde.氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴(yán)格粒度分布控制下, ＊小粒度能夠達(dá)到0.3um。晶體呈平板狀、 粒度分布范圍窄、不易產(chǎn)生劃痕、磨削力強(qiáng)。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機(jī)外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學(xué)玻璃, 激光晶體, 光學(xué)晶體, 光學(xué)塑料, 半導(dǎo)體, 金屬合金, 陶瓷, 等。7) 塑膠拋光8）大理石拋光、石材拋光9）汽車(chē)漆面拋光10)石英晶體研磨拋光，晶振研磨拋光

  • A 無(wú)錫中晶平板狀氧化鋁拋光粉和拋光液使用說(shuō)明書(shū)無(wú)錫中晶材料科技有限公司，氧化鋁拋光液是以微米或納米級(jí)氧化鋁為磨料，再配以濕潤(rùn)劑、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料。適用于各種精密產(chǎn)品及金相切片、手機(jī)殼等研磨拋光。公司開(kāi)發(fā)和經(jīng)營(yíng)的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，先進(jìn)的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴(yán)格的分級(jí)工藝保證了實(shí)際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒，其粒度組成都高于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的粒度范圍要求。所有這些研磨拋光材料，粒度、品種齊全，以滿(mǎn)足用戶(hù)各種要求。通過(guò)工藝、設(shè)備、流程控制，保證了高純納米氧化鋁拋光液具有以下優(yōu)越性能：1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩(wěn)定性好；2、磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。    氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復(fù)合材料的高精度研磨及拋光等表面處理：1、手機(jī)殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學(xué)玻璃等振動(dòng)拋光（機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。2、單晶硅片等半導(dǎo)體、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。4、汽車(chē)油漆打磨拋光，樹(shù)脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車(chē)，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來(lái)回拋磨，很快就光亮如新，無(wú)一點(diǎn)擦痕。推薦配套使用：本公司金相拋光潤(rùn)滑冷卻液，樣品的拋光效果則更加＊＊。使用與用量：推薦用量為1～20％，使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過(guò)試驗(yàn)決定＊佳添加量。◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。◆ 使用時(shí)，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過(guò)濾清潔水加以稀釋?zhuān){(diào)制不同濃度。儲(chǔ)   存：本品需在0℃以上儲(chǔ)存，防止結(jié)塊，在0℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。包   裝：產(chǎn)品包裝有：200毫升/瓶和500毫升/瓶。1 L/瓶、5 L/桶、20 L/桶

  • A顆粒度均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)。純度高，不含有可能引起劃痕的雜質(zhì)。有良好的分散性，以保證加工過(guò)程的穩(wěn)定和**?；瘜W(xué)穩(wěn)定性好，不致腐蝕工件。粉體晶型機(jī)構(gòu)穩(wěn)定，耐磨性及流動(dòng)性好。粒度大的拋光粉，磨削力越大，越適合加工硬度高的材料，反之粒度小的拋光粉適合加工偏軟類(lèi)的材料。所以?huà)伖夥鄱加幸粋€(gè)粒度分布范圍，平均粒徑(中心粒徑D50)的大小只決定拋光速度的快慢，而**粒徑Dmax決定拋光精度的高低。因此要達(dá)到高精度的表面拋光要求，必須控制拋光粉的粒度分布比例和范圍。

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藍(lán)寶石用氧化鋁拋光粉 Alumina polishing powde

藍(lán)寶石用氧化鋁拋光粉 Alumina polishing powde

品名：r氧化鋁拋光粉, Alumina polishing powde.氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴(yán)格粒度分布控制下, ＊小粒度能夠達(dá)到0.3um。晶體呈平板狀、 粒度分布范圍窄、不易產(chǎn)生劃痕、磨削力強(qiáng)。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機(jī)外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學(xué)玻璃, 激光晶體, 光學(xué)晶體, 光學(xué)塑料, 半導(dǎo)體, 金屬合金, 陶瓷, 等。7) 塑膠拋光8）大理石拋光、石材拋光9）汽車(chē)漆面拋光10)石英晶體研磨拋光，晶振研磨拋光

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丹陽(yáng)市中研研磨材料科技有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事研磨拋光材料（片狀氧化鋁研磨拋光微粉、平板狀氧化鋁微粉、單晶金剛石拋光液、多晶金剛石微粉）研制開(kāi)發(fā)，單晶/多晶研磨微粉，單晶/多晶專(zhuān)用研磨液，片狀氧化鋁拋光液（Al2O3)，平板狀氧化鋁研磨拋光粉（Al2O3)，氧化鋁拋光液等產(chǎn)品質(zhì)量按國(guó)外工藝參數(shù)產(chǎn)品的標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行，居國(guó)內(nèi)優(yōu)秀水平，使其顆粒粒徑更均勻、切削力強(qiáng)、光澤度好不僅填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白，而且產(chǎn)品性能達(dá)到或超過(guò)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)水平，性?xún)r(jià)比與國(guó)外同類(lèi)產(chǎn)品相比具有優(yōu)秀優(yōu)勢(shì)，產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)已替代國(guó)外產(chǎn)品，市場(chǎng)占有率迅速提高。 主營(yíng)產(chǎn)品: 1/片狀氧化鋁研磨拋光粉、多面狀氧化鋁研磨拋光微粉 2/納米、微米級(jí)氧化鋁拋光液 3/單晶、多晶研磨微粉，單晶、多晶專(zhuān)用研磨液 4/碳化硼微粉及拋光 5/拋光蠟專(zhuān)用氧化鋁微粉
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平板a氧化鋁研磨微粉
片狀氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴(yán)格粒度分布控制下, *小粒度能夠達(dá)到0.3um。晶體呈四邊菱形狀、 粒度分布范圍窄、不易產(chǎn)生劃痕、磨削力強(qiáng)。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機(jī)外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學(xué)玻璃, 激光晶體, 光學(xué)晶體, 光學(xué)塑料, 半導(dǎo)體, 金屬合金, 陶瓷, 等。氧化鋁拋光粉規(guī)格：顏色：白色純度：≥ 96%菱形氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測(cè)試)          產(chǎn)品粒度分布 微米（μm）規(guī)格型號(hào)  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測(cè)試）粒度目數(shù)（＃)TWA-3      3.1       4000＃TWA-5      4.7       3000＃TWA-  7    7.0       2000＃TWA- 10     9.0       4000#      注明(產(chǎn)品粒度以客戶(hù)使用要求標(biāo)準(zhǔn)為準(zhǔn))      粒度分布表以TWA10為例）標(biāo)準(zhǔn)粒徑實(shí)測(cè)數(shù)值（um)規(guī)格（um)**粒徑（dv-0值）16.9<23累積高度3%點(diǎn)的粒徑（dv-3值）16.0     <19累積高度3%點(diǎn)的粒徑（dv-3值）8.5       7.8-9累積高度94%點(diǎn)的粒徑（dv-94值）4.44    ≥4化學(xué)成分化學(xué)成份分析值（%）規(guī)格值（%）AL2O399.3899.3SiNa2O20.0270.05Na2O0.350.55Fe2O30.030.10物理指標(biāo)：化學(xué)名稱(chēng)外觀(guān)比重莫氏硬度A-AL2O3白色3.95-3.98g/cm39.0包裝外貌:包裝材料內(nèi)襯雙層塑料袋，紙箱外包裝包裝重量20KG/箱
氧化鋁研磨微粉( 精拋）
          中晶微米級(jí)氧化鋁拋光粉（精拋）納米的拋光粉是做金相拋光的**材料，同時(shí)還適合不銹鋼鏡面拋光，鈦金屬拋光，鑄鐵拋光，鋁材鏡面拋光，大理石石材鏡面拋光，油漆拋光，樹(shù)脂拋光，PCB電路板拋光，玻璃拋光，光學(xué)玻璃，眼鏡鏡片拋光，樹(shù)脂鏡片拋光，藍(lán)寶石拋光，LED拋光，鍺拋光，鋅拋光，拋光快，光亮度好，無(wú)劃傷。 氧化鋁拋光粉用于藍(lán)寶石拋光比氧化硅的拋光速率快3倍左右，每小時(shí)能拋7-10um。 概要與特點(diǎn)：無(wú)錫中晶材料科技有限公司為迎合市場(chǎng)需求，采用獨(dú)特的生產(chǎn)工藝，利用國(guó)內(nèi)外先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，通過(guò)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)纳a(chǎn)流程制作而成的納米氧化鋁拋光粉為高純度白色粉末，是玻璃、水鉆、水晶、金屬、各種石材系列精拋納米材料。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻；2、磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。規(guī)格:項(xiàng)目指標(biāo)型 號(hào)TWA 0.5TWA 1TWA 1.5外   觀(guān)白色粉末白色粉末白色粉末晶 型a相α相α相含 量﹪≥99.9%99.9%99.9%中位粒徑 D500.5um1um1.5um用途1、人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動(dòng)拋光（機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。2、鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。3、金屬表面拋光。4、拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶、光學(xué)玻璃的表面拋光。5、汽車(chē)油漆打磨拋光，手機(jī)外殼油漆拋光等。用量推薦用量為1～20％，使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過(guò)試驗(yàn)決定*佳添加量。包裝20公斤/每箱（內(nèi)襯PE塑料袋）注意1.請(qǐng)不要浸水。2.請(qǐng)不要用濕手觸摸。3.請(qǐng)佩戴防塵護(hù)罩、安全眼鏡、防護(hù)手套。4.請(qǐng)不要漏出，漏出時(shí)請(qǐng)即時(shí)清掃干凈。                    
金相氧化鋁拋光粉
中晶材料公司開(kāi)發(fā)和經(jīng)營(yíng)的研磨拋光材料系列均為優(yōu)選的磨料，先進(jìn)的制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴(yán)格的分級(jí)工藝保證了實(shí)際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒 ，其粒度組成都高于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的粒度范圍要求。所有這些研磨拋光材料，粒度、品種齊全，以滿(mǎn)足用戶(hù)各種要求。這些研磨材料適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細(xì)的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。氧化鋁拋光粉具有硬度高、磨削力強(qiáng)、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。莫氏硬度可達(dá)1800-2000kg/mm2。顆粒圓滑，不易產(chǎn)生劃痕，粒度分布范圍窄，研磨后材料表面質(zhì)量好。粒度：1、1.5、2.5、3.5、5、7、10、14、20、28、40um包裝：粒度1um-40um之間每瓶重500克      跟據(jù)客戶(hù)要求可以另行包裝成1KG瓶裝、4KG桶裝，10KG箱裝，20KG桶裝【用途】該產(chǎn)品可應(yīng)用于以下領(lǐng)域：★  電子行業(yè)：電子行業(yè)單晶矽片的研磨以及PCB金相切片的研磨；★  裝飾行業(yè)：不銹鋼食具及其它裝飾材料的拋光；★  噴涂材料：等離子噴涂；★  光學(xué)玻璃冷加工?！臼褂梅椒ā考铀渲贸?0-90g/L的懸浮液后使用。
拋光蠟專(zhuān)用研磨微粉
產(chǎn)品描述不銹鋼鍋?zhàn)?、鐵質(zhì)鍋?zhàn)印Ｓ蒙安颊喊咨珤伖庀?，去刷鍋?zhàn)?。切削力大，砂布損耗小。提**率產(chǎn)品品質(zhì)提高液體拋光臘（拋光漿）說(shuō)明書(shū)產(chǎn)品說(shuō)明：配合拋光輪使用，能提供優(yōu)良的光澤度，具有鏡面研磨效果。使用液體拋光臘（拋光漿）的好處增加25%的生產(chǎn)量，節(jié)約勞動(dòng)力。機(jī)械化代替?zhèn)鹘y(tǒng)的手工作業(yè)。操作人員不在需要中斷拋光工作，可以自動(dòng)控制液體拋光臘的噴涂，可以節(jié)約25%的操作時(shí)間，提高產(chǎn)能。節(jié)省35%的清洗時(shí)間，液體拋光臘是水性的配方，拋光之后，產(chǎn)品容易清洗，可以節(jié)約35%的清洗時(shí)間，減少污染和能源消耗。拋光輪的壽命增加10-20%，避免過(guò)熱造成火災(zāi)，噴涂液體研磨材料對(duì)拋光輪的表面有冷卻的作用，可以增加拋光輪的壽命，且可以避免因?yàn)檫^(guò)熱導(dǎo)致火災(zāi)的危險(xiǎn)
氧化鋁研磨微粉(粗拋）
               中晶微米級(jí)氧化鋁拋光粉（粗拋）             光學(xué)玻殼領(lǐng)域【產(chǎn)品規(guī)格】產(chǎn)品型號(hào) CODE中值粒徑D50（μm）     標(biāo)準(zhǔn)國(guó)標(biāo)TWA4535.0±2.0#360W50TWA3020.5±1.5#600W28TWA2014.5±1.0#800W20【特點(diǎn)】①  外觀(guān)呈純白色，韌性高，不易壓碎，耐磨性好。②  形狀呈六角平板狀，不容易造成劃傷，懸浮性好。③  研磨效率和傳統(tǒng)研磨粉相比，速率高出2-3倍，且加工后產(chǎn)品表面平坦度好于傳統(tǒng)磨料，并為后期拋光加工省去了不必要的麻煩。【適用范圍】       適用于顯像管玻殼、光學(xué)鏡片的研磨加工。特別適合大尺寸玻殼、玻屏的研磨加工。
氧化鋁研磨微粉（中拋）
          中晶微米級(jí)氧化鋁拋光粉（中拋）.【產(chǎn)品性能】本公司生產(chǎn)的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化鋁產(chǎn)品，采用獨(dú)特的生產(chǎn)工藝，利用國(guó)內(nèi)外先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，通過(guò)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)纳a(chǎn)流程制作而成。該產(chǎn)品具有以下優(yōu)越性能：●晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻；●磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；●研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快                     產(chǎn)品粒度分布 微米（μm） 規(guī)格型號(hào)  平均粒度（D50值)粒度目數(shù)（＃）晶型含量%>外觀(guān)TWA22.2±0.46000＃α相99.62%白色粉末TWA33.1±0.44000＃α相99.62%白色粉末TWA54.7±0.53000＃α相99.62%白色粉末TWA96.4±0.62000＃α相99.62%白色粉末TWA GF17.0±0.62200＃α相99.62%白色粉末TWA128.4±o.61500＃α相99.62%白色粉末TWA1510.5±1.5800＃α相99.62%白色粉末 【適用范圍及建議】 ①人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動(dòng)拋光（機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。②鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。③金屬表面拋光。④拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶等！
鋁合金氧化鋁拋光液
品介紹規(guī)格參數(shù)【產(chǎn)品型號(hào)} ZJ-300   系列氧化鋁拋光液【應(yīng)用領(lǐng)域】不銹鋼、鋁合金等金屬材料的拋光?！井a(chǎn)品特色】顆粒分散性好，有效避免了拋光過(guò)程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷；顆粒粒徑分布適中，**程度提升拋光速度的同時(shí)降低微劃傷的概率，可以提高拋光良率；運(yùn)用拋光液中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量；低VOC配方，使用過(guò)程避免粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全?！臼褂谜f(shuō)明】產(chǎn)品久置會(huì)有分層、沉淀，均屬正常物理現(xiàn)象，使用前請(qǐng)攪拌均勻；使用過(guò)程中保持持續(xù)攪拌，可保證穩(wěn)定的研磨效率；根據(jù)工藝要求進(jìn)行一定的稀釋?zhuān)话憬ㄗh1:1至1:3?！景b】標(biāo)準(zhǔn)包裝：25 kg /桶，250 kg/桶。也可根據(jù)客戶(hù)要求進(jìn)行包裝?！　′X合金氧化鋁鏡面拋光液：不 銹鋼拋光液具有效率高、效果穩(wěn)定等特點(diǎn)；專(zhuān)門(mén)針對(duì)鋁合金材質(zhì)鏡面拋光工序(如1000系列工業(yè)純鋁、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型號(hào))，并根據(jù)材料型號(hào)的不 同配套有相應(yīng)的不銹鋼拋光液。作業(yè)后能夠?qū)崿F(xiàn)很高標(biāo)準(zhǔn)的平行度和**鏡面效果?！　′X合金鏡面拋光液的組分：拋光粉、水、酸、無(wú)機(jī)鹽、其他。適合鋁合金等材質(zhì)工件鏡面拋光加工用?！?  一般來(lái)說(shuō)，工件要實(shí)現(xiàn)鏡面效果，基本上都是要經(jīng)過(guò)粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度，則可以省略粗拋工序?！　〈謷仯喝コ鞯拇蟛糠钟嗔?，**所達(dá)到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度?！　【珤仯捍謷佂瓿珊蟮南乱粋€(gè)工序就是精拋，結(jié)果是能夠保持*精確的幾何形狀以及精細(xì)的裂紋深度?！　伖猓汗ぜㄟ^(guò)了粗拋、精拋工藝后，進(jìn)入拋光工序;也是*終實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面層實(shí)現(xiàn)的**一個(gè)部分，前提下前兩者必須要為**一步拋光做好準(zhǔn)備，使得在整個(gè)拋光過(guò)程當(dāng)中，盡量去除粗拋與精拋所留下的破環(huán)層，實(shí)現(xiàn)光學(xué)表面*理想鏡面效果。　　由于這三種工序不同，所用的研磨液也不一樣　　1.粗拋選擇的耗材是：粗拋液，粗磨盤(pán)(鑄鐵盤(pán))。這兩種耗材的成分里面，主成分的材質(zhì)稍微較粗，要求硬度較高，顆粒度較大，這樣才有較好的切削力?！　?.精拋選擇的耗材是：精拋液，精磨盤(pán)(錫盤(pán))。這兩種耗材相對(duì)要求要高一點(diǎn)，需要材質(zhì)更為精細(xì)，顆粒非常小的原材料生產(chǎn)?！　?.拋光選擇的耗材是：拋光液，拋光盤(pán)(銅盤(pán))。這個(gè)耗材要求**，對(duì)精細(xì)度有著非常嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。一般是采用納米級(jí)顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級(jí)的金屬顆粒鍛造而成?！　∵x擇中晶，保證拋光效果　   一般來(lái)說(shuō)，研磨液都是以客戶(hù)工件的材質(zhì)和要達(dá)到的效果來(lái)配置的。在交貨前，中晶工程師會(huì)依據(jù)客戶(hù)提供的工件試樣，除了要達(dá)到客戶(hù)拋光要求，還要實(shí)現(xiàn)高良率、**率、低成本原則。交貨后，提供詳細(xì)的使用方法，并有工程師上門(mén)指導(dǎo)，保證拋光效果。
阿爾法氧化鋁研磨微粉
產(chǎn)品描述阿爾法氧化鋁微粉 (white fused alumina)  TWA0.5、TWA1.5、TWA2、TWA3.5、TWA5、TWA7、TWA10、TWA14、TWA20、TWA28、TWA40、TWA63阿爾法氧化鋁微粉是以?xún)?yōu)質(zhì)的鋁氧粉為原料，經(jīng)電熔提煉結(jié)晶而成，具有硬度高，韌性稍低，純度高，自銳性?xún)?yōu)，磨削力強(qiáng)，發(fā)熱量小，效率高，耐酸堿腐蝕，耐高溫，熱穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。它不但是**的磨料磨具材料，還是**研磨，拋光材料等，用它加工制成的磨具，適用磨削高碳鋼，高速鋼及各種不銹鋼。它還廣泛用于精密鑄造，鋼鐵耐火，化工耐火，95電池，裝飾瓷等特種陶瓷及日常生活用瓷，以及軍工，電子等高科技行業(yè)。粒度(國(guó)標(biāo))        基本粒尺寸(um)TWA63             63-50umTWA50             50-40umTWA40             28-40umTWA28             20-28umTWA20             14-20umTWA14             10-14umTWA10             7-10umTWA7              5-7umFTWA5            3.5-5umTWA3.5         2.5-3.5umTWA2.5         1.5-2.5umTWA1.5         0.5-1.5umTWA0.5         0-0.5umAl2O3≥99.00%Fe2O3≤0.07%SiO2≤/Cao≤0.03%MgO≤0.02%K2O≤0.02%Na2O≤0.40%堆積密度1.75-1.95g/cm3顆粒密度≥3.90g/cm3 min莫氏硬度≥9顯微硬度21600-22600kg/mm3用途其磨具適用于磨削高碳鋼、高速鋼和淬火鋼等硬度較硬、抗張強(qiáng)度較大的材料的磨削。等。還可作為研磨拋光材料；精密鑄造、噴涂材料，化工觸媒載體，特種陶瓷、砂輪，煉鋼，**耐火材料等。它的特點(diǎn)是切削力較強(qiáng)，化學(xué)穩(wěn)定性好，具有很好的絕緣性

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